总之,学最新N效应学声新理为了进一步降低功耗,出免而不是极化传统上依赖的增强长程库仑相互作用。
二、软化诱导的论材料牛铁电性受到去极化效应的抑制,© 2024 Nature
图4 在硅衬底上外延生长的ZrO2和Hf0.8Zr0.2O2超薄薄膜中,© 2024 Nature
三、科学© 2024 Nature
图2 在岩盐结构氧化铍(rs-BeO)中,然而,导体的光即通过调整化学键、所东这对于理解和设计新型铁电材料具有重要意义。离子半径差异、展示出在岩盐结构的超宽带隙氧化铍(BeO)中异常软的TO声子主要是由于短程键合作用的大幅减弱引起的,使其不受去极化场的影响。出现了稳健的铁电性。【科学启示】
本文提供了几个重要的科学启示,由于双轴应变引起的拉伸键的短程键合作用减弱,
一、同时,
论文详情:https://www.nature.com/articles/s41586-024-08099-0
本文由虚谷纳物供稿
图3 在(101)晶面上施加双轴应变时二氧化锆(ZrO2)的动态特性。由非极性t相到极性o相的薄膜诱导铁电相变与外延应变诱导的铁电相变的比较。特别是在铁电材料和高k介电材料的研究领域,这对于提高集成电路的性能和降低功耗至关重要。本文进一步证明了在应变诱导的钙钛矿BaZrO3以及在晶格失配的SiO2/Si衬底上外延生长的超薄HfO2和ZrO2薄膜中,这限制了材料同时具备高介电常数和大带隙的可能性。它们围绕一个极小的Be离子排列成八面体结构。以及岩盐结构和闪锌矿结构之间的晶体结构和动态特性进行比较。传统观点认为,应变、这对于理解材料的电子结构和力学性质之间的关系提供了新的视角。国内外探索两条路径:一是寻找具有更高介电常数和更宽带隙的新型高k氧化物材料,
图1 不同氧化物的带隙与静态介电常数之间的关系,主要挑战在于晶体管的功耗难以同步降低。科学正逼近物理极限,邓惠雄研究员和宁波东方理工大学魏苏淮教授;其他合作者还包括剑桥大学John Robertson教授。难以实现大规模集成。铁电材料在纳米尺度器件中的应用受到界面退极化效应的制约,实现更低的工作电压和功耗。提出了另一种驱动TO声子软化的途径,掺杂和晶格畸变来增强超薄膜中铁电性的新思路,通过铁电/电介质堆叠,这些发现为开发一个统一理论提供了新的思路,掺杂和晶格畸变来增强超薄膜中的铁电性,同时保持栅控能力;二是采用负电容晶体管(NCFET)技术,杨巧林为第二作者;共同通讯作者为中国科学院半导体研究所骆军委研究员、氧化物的高k介电常数和铁电相变均源自光学声子的软化。这为材料设计提供了新的方向。本文的研究不仅增进了对铁电材料和高k介电材料的理解,【科学背景】
随着摩尔定律推动晶体管不断微型化,以增厚栅介电层,以下是一些关键点:
近日,应变、